Diploma Thesis
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Diese Diplomarbeit befasst sich mit der neuartigen Technologie der Aluminiumdotierung von Kupferkeimschichten. Es wird untersucht, ob durch oberflächenanalytische Verfahren eine qualitative Aussage zur Aluminiumverteilung in den Kupfer-Leiterbahnen getätigt werden kann. In Elektromigrationstests soll die Zuverlässigkeit dieser neuen Technologie getestet und bewertet werden. Zu Auswertung dieser Messungen werden die mittleren Lebenszeiten der Leiterbahnstrukturen beurteilt. Die oberflächenanalytischen Untersuchungen haben erkennen lassen, dass SIMS- und Atom-Probe Feldionenmikroskopie Aussagen zur qualitativen Verteilung des Aluminiums in den Kupferschichten erbringen können. Des weiteren haben die Zuverlässigkeitsmessungen eine erhebliche Lebenszeiterhöhung bei den mit Aluminium dotierten Kupferschichten gezeigt.
