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Ziel der folgenden Arbeit ist ein Rahmenprozess, um die Planung von IT-Infrastrukturen zu strukturieren und zu verwalten. Dieser soll ITIL-konform sein und sich flexibel an verschiedene Gegebenheiten anpassen und anpassen lassen. Im Speziellen wird eine Variante zur Spezifikation von Servern dargestellt.

Diese Diplomarbeit befasst sich mit der neuartigen Technologie der Aluminiumdotierung von Kupferkeimschichten. Es wird untersucht, ob durch oberflächenanalytische Verfahren eine qualitative Aussage zur Aluminiumverteilung in den Kupfer-Leiterbahnen getätigt werden kann. In Elektromigrationstests soll die Zuverlässigkeit dieser neuen Technologie getestet und bewertet werden. Zu Auswertung dieser Messungen werden die mittleren Lebenszeiten der Leiterbahnstrukturen beurteilt. Die oberflächenanalytischen Untersuchungen haben erkennen lassen, dass SIMS- und Atom-Probe Feldionenmikroskopie Aussagen zur qualitativen Verteilung des Aluminiums in den Kupferschichten erbringen können. Des weiteren haben die Zuverlässigkeitsmessungen eine erhebliche Lebenszeiterhöhung bei den mit Aluminium dotierten Kupferschichten gezeigt.

Die Diplomarbeit untersucht Methoden zur elektrischen und physikalischen Markierung von Flash-Speicher-Zellen in CMOS-Logik-Produkten. Ziel ist der Nachweis der korrekten Umrechnung von logischen Flashzellenadressen in deren physikalische Chip - Koordinaten (Descrambling). Dieser Nachweis ist ein notwendiger vorbereitender Schritt vor Fehleranalysen am eingebetteten Flash-Speicher. Bisherige Methoden zur Überprüfung der Descrambling-Routine für Flash-Speicher sind weder schnell noch effektiv. Eine Optimierung vorhandener und die Einführung weiterer Methoden sollen zur Effizienzsteigerung der Fehleranalyse beitragen. Neben der Untersuchung bereits genutzter physikalischer Effekte, beispielsweise der Thermografie, wurde im Rahmen der Diplomarbeit eine neue Methode entwickelt. Sie beruht auf einer durch Laserbestrahlung hervorgerufenen Zellprogrammierung. Da die Laserprogrammierung sowohl schnelle als auch genaue Ergebnisse erbracht hat, fokussiert die Diplomarbeit auf die Weiterentwicklung und das Verständnis dieser Methode. Die bisherigen Forschungsergebnisse weisen darauf hin, dass es sich bei dem beobachteten physikalischen Effekt um eine durch den Laser Induzierte Heiße Elektronen Injektion (LIHEI) handelt. Die Einsetzbarkeit der LIHEI ist bisher durch eine minimal erforderliche Leistung der integrierten Spannungspumpen limitiert. Daher bleibt eine Methodenauswahl weiterhin erforderlich. Die Zusammenfassung dieser Arbeit beinhaltet eine Übersicht über alle unter-suchten Methoden, sowie ergänzend eine Methodenübersicht für SRAM-Speicher. Mit Hilfe der aufgeführten Tabellen kann in Zukunft vor einer Bitmap-Verifikation eine geeignete Vorgehensweise ausgewählt werden.

Diese Diplomarbeit befasst sich mit der Charakterisierung und angestrebten Optimierung nitridierter Gateoxid- sowie, Tunneloxidprozesse von RTP-Anlagen unterschiedlicher Hersteller. Die Charakterisierung erfolgte mittels unterschiedlicher Methoden. Zum einen wurden Schichteigenschaften wie Dicke und Homogenität sowie, elektrische Parameter wie spezifischer elektrischer Widerstand, Tunnelfeldstärke, Störstellendichte und Gesamtladungen im Oxid ermittelt. Zum anderen kamen zur Beschreibung des Nitridierungsprofils ein Reoxidationsverfahren, als auch ToFSIMS- und XPS-Analysen zum Einsatz. Im ersten Teil der Diplomarbeit war das Ziel, einen produktiv verwendeten Gateoxidprozess zu charakterisieren. Hierbei handelt es sich um einen Drei-Kammer-Prozess mit einer Niederdruck-Stickstoff-Plasma-Nitridierung. Diese Ergebnisse dienten als Vorgabe zur Anpassung eines zu optimierenden Gateoxidprozesses, welcher in einer Kammer unter Normaldruck und mit einer Amoniak-Nitridierung stattfindet. Durch statistische Versuchsplanung sollten die Prozessparameter ermittelt werden, die zu einem Gateoxid mit den selben Schichteigenschaften wie des originalen Gateoxides führen. Im zweiten Teil soll ein produktiv verwendetes, ca. 7 Minuten langes Tunneloxidrezept optimiert werden. Unter Beachtung des thermischen Budgets soll das Rezept merklich verkürzt werden, ohne dass negative Änderungen der Schichteigenschaften auftreten.

Es erfolgte eine Untersuchung der Möglichkeit der Abscheidung von aluminiumbasierten Schichten an einer B- 30 Beschichtungsanlage. Die Abscheidung der Schichten erfolgte mittels Reaktiver Kathodenzerstäubung. Arbeitsgas war hierbei Argon. Als Reaktivgas fungierte Stickstoff. Nach erfolgreicher Schichtabscheidung (AlN) erfolgte eine Charakterisierung der so erzeugten Schichten. Untersucht wurden diese mittels REM, EDX- und XPS- Analyse.