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VDMOS-Leistungstransistoren der Firma SMI Frankfurt/Oder sind Untersuchungsobjekte der vorliegenden Diplomarbeit. Die Simulation der Ausgangs- und Transferkennlinien mit SPICE mit den Effekten der Eigenerwärmung werden dargelegt. Die dazu notwendigen Bauelementeparameter sind dargestellt und extrahiert worden. Die gegenwärtigen verwendeten Halbleiterstrukturen werden aufgezeigt und dargestellt. <!-- #h:dissdiplEigenerwärmung.doc# -->

<UL> <LI> Theoretische Analyse des Themas KVP <LI> Erläuterung der Notwendigkeit von Optimierungsmaßnahmen <LI> Beschreibungsmorphologie, die die wesentlichen Merkmale und Ausprägungen des KVP enthält und der Darstellung verschiedener Ansätze dient <LI> Optimierungsprojekte in neun Firmen im süddeutschen Raum und Darstellung der dabei gewonnenen Erfahrungen </UL> <!-- #h:dissdiplKAIZEN-Verbesserungsprozeß.doc# -->

Ziel der Diplomarbeit ist die Anpassung und Auswertung von Untersuchungen zur Defektoskopie von Zirkonoxid-Foliensubstraten mit dem Reflexionsverfahren. Es wird der Versuchsaufbau und die Durchführung beschrieben. Weiterhin werden die gewonnenen Ergebnisse mit den Messungen des Autofokusverfahrens, des Streifenprojektionsverfahrens und dem Mirau-Interferometer verglichen. Der Vergleich zeigt die wesentlichen Vor- und Nachteile der einzelnen Meßverfahren bei der Detektion von Oberflächenfehlern auf Zirkonoxid-Folien. <!-- #h:dissdiplOberflächenmeßtechnik.doc# -->

Es werden Messungen der Temperaturleitfähigkeit an Schichtverbunden und Sandwichproben mittels Laser-Flash-Methode vorgestellt. Zur Auswertung der Meßergebnisse wird neben den Möglichkeiten der Standardsoftware der verwendeten kommerziellen Anlage LFA 427 von Netzsch Gerätebau GmbH das Differenzenverfahren zur Lösung der Wärmeleitungsgleichung auf die Erfordernisse der Laser-Flash-Methode angepaßt. Das so vereinfachte eindimensionale Differenzenverfahren wird desweiteren um die Möglichkeit der Darstellung von Werkstoffverbunden erweitert und mit den Meßergebnissen der Software der Anlage LFA 427, die sich einer analytischen Lösung der Wärmeleitungsgleichung bedient, verglichen. <!-- #h:dissdiplLaser-Flash.doc# -->

Ziel der Diplomarbeit war die Optimierung von Plasmaätzverfahren (Reactive Ion Etching und Plasmaätzen mit Inertgas) an verschiedenen Sustratmaterialien und verschiedenen Substratgrößen, um einen gleichmäßigen Ätzabtrag zu erreichen. Die Untersuchungen erfolgten an einer ECR-RIE-Anlage die insbesondere auf die Anforderungen im Forschungs- und Entwicklungsbereich auf dem Gebiet der Mikrostrukturtechnik zugeschnitten ist. Da im industriellen Einsatz immer größere Wafer Verwendung finden, steigt auch der Anspruch an Forschungsanlagen bezüglich der Substratgröße, so daß eine Optimierung auf Substratgrößen bis 6'erfolgte. Die vorliegende Arbeit soll außerdem die vielfältigen Variationsmöglichkeiten der unterschiedlichen Prozeßparameter wie Substratgröße, Gasmischungen, Mikrowellen- und RF-Leistung und dergleichen darstellen, wobei innerhalb der Diplomarbeit nicht alle Möglichkeiten ausgeschöpft werden konnten. Ausgehend von der Darstellung einiger wichtiger Grundlagen zur Plasmaätztechnologie wird vorrangig auf den Aufbau der Anlage und die Optimierung der Prozeßkomponenten und des Ätzprozesses eingegangen. <!-- #h:dissdiplReaktives Ionenätzen.doc# -->