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Kernelement dieser Venenklappenprothese ist eine Gefäßprothese (Stent) als Grundgerüst, in die eine Klappe integriert wird. Basismaterial des Stent ist die Formgedächtnislegierung Nickel - Titan. Als Material für die Klappen wird Polyurethan verwendet. Die Arbeit enthält die Schritte von der Konzeption über die Konstruktion bis hin zum kompletten Herstellungsprozess der künstlichen Venenklappe.

Die Diplomarbeit beinhaltet Auswahl und Aufbau eines Linux-Servers mit Firewall, Sambaserver, Datensicherung und Remote-Administration für kleine und mittlere Unternehmen. In einem ersten Schritt erfolgt die Analyse einer typischen Netzwerksituation. Mögliche Netzwerklösungen werden untersucht und verglichen, sowie eine geeignete ausgewählt. Anschließend erfolgt die Konzeption der Serverkomponenten, sowie die Erläuterung der praktischen Umsetzung.

Diese Diplomarbeit beschäftigt sich mit der Konzeption und Implementierung eines Mitgliederbereiches. Speziell wird dabei Wert auf Zugriffsschutzmechanismen, die zur Konzeption eines Mitgliederbereichs erforderlich sind, gelegt. Weiterhin werden Informationen über mögliche Inhalte in Form eines Fragebogens mittels einer Informationsbedarfsbeschaffungsanalyse erfragt.

Mit oberflächenanalytischen Methoden wurden Untersuchungen zur Eignung dünner, magnetrongesputterter TaSiNx-Schichten als isolierende Passivierungsschicht für Kupfermetallisierung durchgeführt. Für die hochaufgelöste XPS-Tiefenprofilanalytik an dünnen TaSiN-Schichten (10 nm bis 30 nm) wurde ein vorhandenes XPS-System eingearbeitet und optimiert. Dies beinhaltete grundlegende Studien zur Abstimmung der Komponenten (Ionenquelle, Analysator) unter dem Aspekt einer hohen Tiefenauflösung. Zur Charakterisierung der Zusammensetzung der TaSiN-Schichten und der Bindungsverhältnisse in der Matrix, in Abhängigkeit des Reaktivgasflusses, wurden Tiefenprofile der Schichtsysteme mit XPS aufgenommen. Ab einen Stickstofffluss von etwas 6 sccm sind die Schichten an Stickstoff gesättigt (Elementalgehalt Xn = 55 at-%). In der gesättigten TaSiN-Matrix liegen Tantal und Silizium vorwiegend an Stickstoff gebunden vor. Mit ergänzenden analytischen Methoden wurde die Abscheidung amorpher, homogener und hochohmiger Schichten, mit einer geschlossenen Schichtstruktur und einer geringen Oberflächenrauhigkeit nachgewiesen. Die TaSiN-Schichten auf Kupfersubstrat wurden einer Wärmebehandlung unter ambienten Bedingungen für eine Dauer von 5 Stunden unterzogen. Bei Temperaturen von 200 Grad Celsius bis 300 Grad Celsius wurden lokale Defekte in den 10 nm TaSiN-Schichten nachgewiesen, in denen Kupfer bis zur Oberfläche vordringt. Die 30 nm Barriereschichten bleiben bis 400 Grad Celsius thermisch stabil.

Die vorgelegte Diplomarbeit befasst sich mit der Photoelektronenspektroskopie an Festkörpern. Am UHV-Analysensystem des Labors Oberflächenanalytik der WHZ werden die Spektrometerkomponenten getestet sowie die Energie-, Lateral- und Tiefenauflösung bestimmt. Mittels XPS werden Bornitridschichten anlysiert und die Zusammensetzung von Chromnitridschichten in Abhängigkeit des Stickstoffpartialdruckes bei der Herstellung untersucht.