@mastersthesis{Sch{\"u}rer2018,
  type      = {Bachelor Thesis},
  author    = {Sch{\"u}rer, Tobias},
  title     = {Prozessoptimierung des reaktiven Sputterprozesses der elektrochromen Hauptelektrode mittels Plasmamonitoring.},
  institution = {Physikalische Technik, Informatik},
  school    = {Wests{\"a}chsische Hochschule Zwickau},
  pages     = {45 Seiten, 33 Abb., 10 Tab., 16 Lit.},
  year      = {2018},
  abstract  = {Mit Hilfe des reaktiven Sputterprozess wird elektrochromes Material abgeschieden. Dieser Prozess wird {\"u}ber eine PEPVD realisiert. Das dabei genutzte Plasma wird w{\"a}hrend der Beschichtung mittels optischer Atomemissionsspektroskopie analysiert. Die dabei entstandenen elektrochromen Schichten werden elektrochemisch vermessen. Die Zusammensetzung des Plasmas wird mit den Eigenschaften der Schichten zusammengef{\"u}hrt.},
  language  = {de}
}