@mastersthesis{Wislicenus2018,
  type      = {Master Thesis},
  author    = {Wislicenus, Marcus},
  title     = {Optimierung eines Kobalt-MOCVD-Prozesses zur Herstellung von Kupferdiffusionsbarrieren},
  institution = {Physikalische Technik, Informatik},
  school    = {Wests{\"a}chsische Hochschule Zwickau},
  pages     = {102 Seiten, 39 Abb., 6 Tab., 84 Lit.},
  year      = {2018},
  abstract  = {Um den Anforderungen zuk{\"u}nftiger Mikroprozessoren nachkommen zu k{\"o}nnen, muss der Einsatz neuer Materialien bzw. Materialsysteme in der Halbleiterindustrie {\"u}berpr{\"u}ft werden. Ziel dieser Masterarbeit war die Optimierung eines Kobalt-MOCVD-Prozesses zur Herstel-lung von Kupferdiffusionsbarrieren in der Back-End-of-Line-Metallisierung. Unter Ber{\"u}cksichtigung des theoretisch zu erwartenden Einflusses der verschiedenen Pro-zessparameter auf das Beschichtungsresultat wurden separate Versuchspl{\"a}ne aufgestellt, deren Durchf{\"u}hrung beschrieben und die Ergebnisse der Schichtcharakterisierung vorgestellt. Die beobachteten Auswirkungen dieser Prozessparametervariation auf das Wachstumsverhalten und die Eigenschaften der Kobaltschichten wurden diskutiert. Dabei konnte gezeigt werden, dass die Oberfl{\"a}chenrauheit der Kobaltschichten ausschlaggebend f{\"u}r ihre elektrische Leitf{\"a}higkeit war. Außerdem war es m{\"o}glich vorteilhafte Einstellungen gegen{\"u}ber dem Referenzprozess, sowohl f{\"u}r Blank- als auch Strukturscheiben, abzuleiten. Abschließend zeigten erste Untersuchungen zur direkten elektrochemischen Bekupferung der Kobaltschichten die M{\"o}glichkeit zur Integration in den bestehenden Herstellungsprozess.},
  subject      = {MOCVD-Verfahren},
  language  = {de}
}