@misc{M{\"u}nzberger2018,
  author    = {M{\"u}nzberger, Sven},
  title     = {Optimierung der Polierzeitberechnung f{\"u}r Oxid Prozesse beim Chemisch-Mechanischen Polieren in Run-to-Run Systemen},
  institution = {Physikalische Technik, Informatik},
  pages     = {56 Seiten, 57 Abb., 2 Tab., 20 Lit.},
  year      = {2018},
  abstract  = {In der Halbleiterfertigung werden Run to Run Controler zur automatischen Nachregelung von Prozessdrifts eingesetzt. Zur Formulierung eines Regelgesetzes m{\"u}ssen die voneinander abh{\"a}ngigen Gr{\"o}ßen bekannt sein. Bei der Charakterisierung des Chemisch-Mechanischen Polierens (CMP) ist die Abtragsrate eine wichtige Kenngr{\"o}ße zur Berechnung einer optimalen Polierzeit. F{\"u}r unterschiedliche Produkte gibt es unterschiedliche Abtragsraten. Durch den Einfluss von Verbrauchsmaterialien {\"u}ber deren Nutzungszeit {\"a}ndert sich der Anlagenzustand. In dieser Diplomarbeit wurden Methoden zur Optimierung der Polierzeitberechnung f{\"u}r Oxid},
  subject      = {Chemisch-mechanisches Polieren},
  language  = {de}
}