@misc{Doll2008,
  author    = {Doll, Frank},
  title     = {Abscheidung und Charakterisierung von wasserstoffhaltigem Siliciumnitrid mittels reaktivem Sputtern},
  institution = {Physikalische Technik, Informatik},
  pages     = {55 Seiten, 41 Abb., 2 Tab., 33 Lit.},
  year      = {2008},
  abstract  = {In der Photovoltaik wird Siliciumnitrid als Antireflex- und Passivierungsschicht eingesetzt. Aktuell kommen CVD-Verfahren bei der Herstellung zum Einsatz. Da CVD-Verfahren gef{\"a}hrliche Precusoren im Prozess verwenden, sollen diese durch das Sputtern abgel{\"o}st werden. Einen Beitrag dazu soll diese Diplomarbeit liefern, indem mit reaktivem Sputtern wasserstoffhaltige Siliciumnitridschichten erzeugt und charakterisiert werden. Rasterkraftmikroskopische Untersuchungen geben einen Aufschluss {\"u}ber das Oberfl{\"a}chenprofil. Die Bruchfl{\"a}che der Siliciumnitridschicht ist mit dem Rasterelektronenmikroskop untersucht worden. Mit der Sinterung wurde die Siliciumnitridschicht der multikristallinen Siliciumwafer auf Blasenbildung untersucht. Abschließend wurde die Siliciumnitridschicht mit einem FTIR-Spektrometer auf Wasserstoffverbindungen mit Stickstoff und Silicium {\"u}berpr{\"u}ft.},
  subject      = {Siliciumnitrid},
  language  = {de}
}