@misc{Gumprich2003,
  author    = {Gumprich, Susann},
  title     = {Untersuchung der M{\"o}glichkeiten zur Verbesserung der Schichtdickenhomogenit{\"a}t bei Sputtern mit dem Doppelring-Magnetron durch zentrische und exzentrische Substratrotation},
  institution = {Physikalische Technik, Informatik},
  pages     = {58 Seiten, 40 Abb., 1 Tab., 19 Lit.},
  year      = {2003},
  abstract  = {Das Magnetron-Sputtern stellt ein bevorzugtes Verfahren zur Abscheidung d{\"u}nner Schichten dar. Vorteile sind eine gute Steuerbarkeit des Beschichtungsprozesses, eine effektive Plasmaaktivierung und die Vielfalt der abscheidbaren Schichten: Ein besonderer Magnetron-Typ ist das Doppelring-Magnetron (DRM 400). Es erm{\"o}glicht eine homogene Schichtabscheidung auf großen Substraten ohne Relativbewegung. Allerdings ist f{\"u}r einige Anwendungsbereiche in der Mikroelektronik und Optik die mit dem DRM 400 erreichbare Homogenit{\"a}t der Schichtdicke nicht gen{\"u}gend. Im Rahmen der Arbeit wurde an den Beispielen Aluminium und Aluminiumoxid gezeigt, dass mittels zentrischer und exzentrischer Substrotation eine deutliche Verbesserung der Schichtdickenhomogenit{\"a}t erreicht wird. Es wurde festgestellt, dass neben der Schichtdicke auch der Brechungsindex eine Abh{\"a}ngigkeit von der radialen Position auf dem Substrat aufweist. Durch exzentrische Substratrotation wurden diese Inhomogenit{\"a}ten vermindert. Ferner konnte durch Co-Sputtern mit unterschiedlichen Targetmaterialien eine (Ti, Si) O-Mitschicht mit einer homogenen Schichtdicke und einer konstanten chemischen Zusammensetzung auf einem eingeschr{\"a}nkten Substratbereich abgeschieden werten. Mit Hilfe von Modellen wurden Vorhersagen zur Schichtdickenverteilung getroffen und hinsichtlich ihrer Aussagekraft anhand von experimentellen Ergebnissen bewertet.},
  language  = {de}
}